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加熱制冷循環(huán)恒溫器 加熱 制冷系統(tǒng)產(chǎn)品廣泛應用于國內(nèi)外科學研究和工藝開發(fā)、新能源汽車、生物技術、醫(yī)藥行業(yè)、航空航天、半導體、醫(yī)療技術等行業(yè)。

Chiller主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫，裝置由熱交換器、循環(huán)泵、壓縮機和控制系統(tǒng)構成，采用先進的控制算法，提高了chiller的穩(wěn)定性、控溫精度和反應速度。在帶負載的情況下控溫精度可達±0.5℃，可在-20℃~85℃之間任意控溫，有良好的溫度穩(wěn)定性。

半導體制冷冷水機可以廣泛應用于民用和工業(yè)領域，例如醫(yī)院、工廠等場所。主要應用于夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、萃取等設備中。

半導體制冷技術利用的是半導體材料在電流通過時表現(xiàn)出的熱電效應，特別是Peltier effect。當電流通過由兩種不同導電性能的半導體材料組成的熱電偶時，會在接觸界面上產(chǎn)生熱量的轉(zhuǎn)移，一側(cè)吸收熱量形成冷端，另一側(cè)釋放熱量形成熱端。

樣品冷熱臺高低溫設備主要應用于高壓反應釜、中試生產(chǎn)不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中。